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镁合金真空镀膜技术的优势

真空涂覆技术主要包括真空蒸发镀,真空溅射镀,真空离子镀,真空束沉积,化学气相沉积等。除了化学气相沉积外,其他几种方法还具有以下共同特征:

发表于2020-08-12 15:41:38,通过 cyanbat发布 | 点击数:0


与湿涂技术相比,真空涂技术具有以下优点:

(1)广泛选择膜和基板,并且可以控制膜厚度以制备具有各种功能的功能膜。

(2)在真空条件下制备膜,环境清洁,并且膜不易被污染,因此可获得具有良好致密性,高纯度和均匀涂布的膜。

(3)该膜与基材的粘合强度良好,并且膜牢固。

(4)干涂不会产生废液或环境污染。

真空涂覆技术主要包括真空蒸发镀,真空溅射镀,真空离子镀,真空束沉积,化学气相沉积等。除了化学气相沉积外,其他几种方法还具有以下共同特征:

(1)各种涂层技术需要特定的真空环境以确保在加热蒸发或溅射期间由成膜材料形成的蒸气分子的运动,而不会被大气中的大量气体分子撞击,阻挡和干扰。消除空气中杂质的不利影响。

(2)各种涂覆技术需要蒸发源或靶材,以将气相沉积的材料转化为气体。由于源或靶的不断改进,成膜材料的选择范围大大扩大。无论是金属,金属合金,金属间化合物,陶瓷还是有机物,都可以气相沉积各种金属膜和介电膜,并且同时通过气相沉积不同的材料获得多层膜。

(3)在与被镀工件成膜的过程中,可以相对准确地测量和控制蒸发或溅射的成膜材料,从而确保膜厚的均匀性。

(4)每个膜都可以通过调节阀精确地控制涂覆室中残留气体的组成和质量分数,从而防止气相沉积材料的氧化,将氧气的质量分数降至最低,并填充惰性气体。等等,这对于湿涂层是不可能的。

(5)由于涂装设备的不断改进,可以连续实现涂装过程,从而大大提高了产品的产量,并且在生产过程中不污染环境。

(6)由于薄膜是在真空条件下形成的,因此薄膜纯度高,致密性好,表面光亮,无需加工,因此其机械性能和化学性能均优于薄膜。电镀膜和化学膜。


作者:青蝠科技   信息来源:@青蝠科技